EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Popular News
Ano ang Pyrolytic Graphite?
2025-11-28
Semixlab Pandaigdigang Balita — Tuwang-tuwa kaming ibahagi ang isang mahalagang update mula sa aming frontline sa pagmamanupaktura. Noong Nobyembre 27, 2025, opisyal nang natapos ang pangunahing balangkas ng istruktura ng aming pangunahing produksyon at R&D base—ang Zhejiang Liufang Semiconductor Technology. Ito ay nagmamarka ng isang tiyak na tagumpay sa kapasidad para sa Semixlab bilang isang premium na pandaigdigang tagapagbigay ng mga advanced na materyales na semiconductor.
Ipinakita ng pangkat ng proyekto ang tinatawag ng mga tagaloob sa industriya na "Liufang Acceleration," na maayos na naglilipat sa proyekto mula sa yugto ng istruktura patungo sa huling kahandaan ng kagamitan. Ang pasilidad ay tahasang iniayon upang paglagyan ng mga susunod na henerasyon ng mga CVD high-temperature furnace, mga ultra-high vacuum purification furnace, at isang komprehensibong suite ng mga precision CNC machining center.
Malalim na Pagkakaayos ng mga Kritikal na Materyales na Pan-Semiconductor
Gamit ang bagong imprastrakturang ito, pinalalawak ng Semixlab ang mga kakayahan nito sa full-chain manufacturing—sumasaklaw sa pagkuha ng mga hilaw na materyales (premium imported isostatic graphite), precision machining, ultra-purification (pagkamit ng mga antas ng abo na < 5ppm sa pamamagitan ng GDMS testing), at high-performance CVD deposition.
Ang bagong base ay lubos na magpapalawak sa kapasidad ng produksyon para sa mga sumusunod na estratehikong linya ng produkto ng semiconductor:
| Kategorya ng Produkto | Mga Pangunahing Teknikal na Espesipikasyon at Kakayahan | Mga Pangunahing Aplikasyon ng Semiconductor |
| Mga Produkto na Pinahiran ng CVD SiC |
• Kadalisayan: >99.99995% • Kayarian: 100% FCC β-phase, (111) na naka-orient • Kontrol ng Pagkakapareho ng Kapal: Sa loob ng 10 μm |
• Silikon Epitaksi • LED/GaN MOCVD Epitaxy • Mga Bahagi ng SiC Epitaxy Halfmoon |
| Mga Produkto ng Patong na TaC |
• Paglaban sa Temperatura: Hanggang 2600°C • Mataas na resistensya sa mga agresibong gas (H2, NH3, SiH4) • Napakataas na puwersa ng pagdikit ng patong |
• Paglago ng kristal ng ikatlong henerasyong semiconductor (SiC/GaN) • Mga thermal field na may mataas na temperaturang induction heating |
| Patong na Pyrolytic Carbon (PyC) |
• Siksikan at hindi buhaghag na pagbubuklod ng ibabaw • Kabuuang nilalaman ng dumi < 20ppm • Mataas na integridad sa vacuum hanggang 1800°C |
• Pagbabago sa pampainit ng grapayt • Mga bahagi ng paglago ng CZ/PV Mono-crystalline na iisang kristal |
| Mga Keramika at Komposit na Mataas ang Kadalisayan |
• Kadalisayan ng rekristal na SiC (R-SiC) >99.96% • Mga composite na Carbon-Carbon (C/C) na may abo na ≤ 20-65 ppm |
• Mga tubo at cantilever paddle ng diffusion, oxidation, at annealing furnace • Mga singsing na RTP/EPI na may mataas na karga |
Pinalawak na Kakayahan sa Paggawa at mga Advanced na Linya ng CVD ng Semixlab
Isang Pangako sa mga Pandaigdigang Pamantayan sa Kalidad
Kagamitan sa pagsusuri ng laboratoryo ng Semixlab
Sinusuportahan ng isang pangkat ng teknolohiyang may pandaigdigang antas na nagmula sa mga nangungunang institusyon tulad ng Zhejiang University at ng Chinese Academy of Sciences, ang ecosystem ng pagmamanupaktura ng Semixlab ay mahigpit na nagpapatakbo sa ilalim ng mga sertipikasyon ng ISO 9001, ISO 14001, at ISO 45001.
Gaya ng sinabi ni He Shaolong, CEO at Propesor, sa seremonya, ang bagong pasilidad na ito ay isang mahalagang tugon sa pangangailangan ng pandaigdigang industriya ng semiconductor para sa matatag, mataas na kadalisayan, at mataas na pagganap na mga bahagi ng materyal. Tinitiyak ng pagbilis ng base na ito na ang Semixlab ay nananatiling iyong pinakamabilis, maaasahan, at teknolohikal na advanced na kasosyo sa pan-semiconductor supply chain.
Para sa custom mapping, mga technical data sheet ng GDMS, o mga trial component testing kit, mangyaring makipag-ugnayan nang direkta sa aming international sales division sa Semixlab.
