Semiconductor quartz wafer

Ang Semixlab Semiconductor Quartz Wafer ay isang precision-polished, ultra-high-purity fused silica substrate na idinisenyo para sa hinihingi na mga kapaligiran sa pagproseso ng semiconductor.

Malawak itong inilapat bilang dummy wafer, carrier wafer, optical substrate, at photomask base sa thermal oxidation, CVD/LPCVD, PECVD, at lithography system.

Ininhinyero mula sa 99.99% high-purity SiO₂, ang quartz wafer na ito ay nag-aalok ng pambihirang thermal stability, chemical inertness, at optical transparency, na tinitiyak ang stable at contamination-free na operasyon sa mga advanced na semiconductor manufacturing lines.

Ⅰ. Mga Katangian ng Materyal at Ibabaw

● Material: Synthetic o natural fused silica (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Mga Opsyon sa Diameter: 2", 4", 6", 8", 12" (magagamit ang mga custom na laki).

● Surface Finish: Double-side polished, flatness ≤ 5 μm, surface roughness ≤ 0.5 nm.

● Thermal Resistance: Matatag hanggang 1200°C tuluy-tuloy na operasyon.

● Thermal Expansion Coefficient: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Optical Transmission: >90% mula 190 nm hanggang 2,600 nm.

Ang bawat wafer ay sumasailalim sa mahigpit na inspeksyon sa ibabaw, dimensional na pag-verify, at pagsusuri sa kadalisayan upang matiyak ang ganap na pagsunod sa mga kinakailangan sa antas ng semiconductor.

Ⅱ. Mga Pangunahing Pag-andar sa Mga Proseso ng Semiconductor

1. Process Carrier sa CVD at LPCVD Systems

Ginagamit ang mga quartz wafer bilang dummy o spacer wafe upang patatagin ang daloy ng gas at pagkakapareho ng temperatura sa panahon ng SiO₂, Si₃N₄, at polysilicon thin-film deposition. Tinitiyak ng kanilang dimensional na katumpakan ang pare-parehong paglaki ng pelikula at kaunting pagbuo ng particle sa buong mga cycle ng deposition.

2. Oxidation at Diffusion Furnace Application

Sa mataas na temperatura na oksihenasyon at dopant diffusion na mga proseso, ang mga quartz wafer ay kumikilos bilang mga thermal shield o process monitor, pinapanatili ang pare-parehong pamamahagi ng temperatura at pinipigilan ang kontaminasyon ng mga production wafer.

3. Paggamit ng Optical at Lithography

Salamat sa mataas na optical transmittance at pagkakapareho ng refractive index, ang quartz wafer ay mainam para sa photomask fabrication, DUV exposure substrates, at optical calibration tool. Ginagarantiyahan nito ang pare-parehong pagpapadala ng liwanag para sa i-line, KrF, at ArF lithography system.

4. Plasma at Etching Environment

Sa dry etching at plasma CVD system, ang mga quartz wafer ay ginagamit bilang mga chamber shield o plasma windows, na nag-aalok ng mahusay na dielectric strength at chemical durability laban sa halogen-based na mga gas (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Metrology at Pag-calibrate ng Kagamitan

Ang mga quartz wafer ay nagsisilbing reference na mga wafer para sa kapal ng pelikula, temperatura, at pagkakalibrate ng flatness. Ang kanilang ultra-smooth, walang depektong ibabaw ay nagbibigay-daan sa tumpak at paulit-ulit na mga resulta ng pagsukat, na tinitiyak ang katatagan ng kontrol sa proseso.

Karaniwang mga Aplikasyon

● Dummy wafer para sa CVD, LPCVD, at PECVD system

● Process carrier o thermal shield sa oxidation at diffusion furnace

● Photomask substrate para sa UV/DUV lithography

● Reference wafer para sa pagkakalibrate ng kagamitan at metrology

● Plasma chamber window at tagapagtanggol sa proseso ng pag-ukit

Ang Semixlab Semiconductor Quartz Wafer ay isang high-performance substrate na inengineered para sa pinaka-hinihingi na mga proseso ng semiconductor. Ang thermal stability, optical precision, at chemical purity nito ay ginagawa itong kailangang-kailangan sa deposition, oxidation, lithography, at metrology applications. Gamit ang komprehensibong pag-customize at suporta sa engineering, naghahatid ang Semixlab ng mga solusyon na nagpapalaki sa pagkakapare-pareho ng proseso, pagiging maaasahan ng ani, at kahusayan sa pagpapatakbo. Taos-puso kaming umaasa na maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.