High Purity SiC Boat

Ang high-purity silicon carbide (SiC) boat ay isang high-performance na ceramic carrier na idinisenyo para sa high-temperature na mga proseso ng semiconductor, crystal growth at precision heat treatment. Ito ay sintered gamit ang ultra-high purity na SiC na materyal at may mahusay na mataas na temperatura na paglaban, thermal shock resistance at chemical stability. Ito ay malawakang ginagamit sa semiconductor diffusion, CVD, LED epitaxy at photovoltaic single crystal growth.

application:

Ang High Purity SiC Boat ay isang pangunahing proseso ng semiconductor na nauubos, pangunahing ginagamit upang dalhin at ilipat ang mga wafer sa mga kapaligirang may mataas na temperatura, at malawakang ginagamit sa pagsasabog ng silicon wafer, oksihenasyon, pagsusubo at mga proseso ng CVD. Ito ay partikular na angkop para sa mga prosesong may mataas na temperatura ng mga third-generation semiconductors (gaya ng SiC/GaN) at mga power device.

Mga serbisyong maaaring ibigay:

pagsusuri ng sitwasyon ng aplikasyon ng customer, pagtutugma ng mga materyales, paglutas ng teknikal na problema.

Profile ng Kumpanya:

Ang Semixlab ay may 2 laboratoryo, isang pangkat ng mga dalubhasa na may 20 taong karanasan sa materyal, na may mga kakayahan sa R&D at produksyon, pagsubok at pag-verify.

Teknikal Mga Parameter

Pangunahing mga patlang ng aplikasyon

Pag-endorso sa pag-verify ng ekolohikal na chain

Sinasaklaw ng ecological chain verification ng Semixlab High-Purity SiC Boat ang mga hilaw na materyales sa produksyon, nakapasa sa internasyonal na standard na sertipikasyon, at may ilang patented na teknolohiya upang matiyak ang pagiging maaasahan at pagpapanatili nito sa semiconductor at bagong larangan ng enerhiya.

Karaniwang proseso ng aplikasyon

Paghahanda ng Raw Material (High-Purity SiC Powder) → Proseso ng Pagbubuo (Dry Pressing/Isostatic Pressing) → Proseso ng Sintering → Machining at Surface Finishing(CNC Grinding/Polishing, Chemical Etching, Annealing) → Purification at CVD Coating → Quality Control → Packaging

Sa pamamagitan ng cutting-edge na proseso ng pag-optimize ng parameter, tinitiyak ng natatanging istrukturang disenyo ng Semixlab High-Purity SiC Boat ang mahusay na katatagan ng wafer habang makabuluhang binabawasan ang panganib ng kontaminasyon ng particle. Ang buhay ng serbisyo nito ay maaaring umabot ng 5-8 beses kaysa sa mga tradisyunal na quartz boat, na ginagawa itong isang mainam na solusyon sa carrier para sa mataas na temperatura na pagpoproseso ng wafer. Binibigyang-daan ng inobasyong ito na unti-unting palitan ang mga pag-import sa semiconductor market, na nagbibigay ng mataas na pagganap, cost-effective na domestic solution.

Para sa mga detalyadong teknikal na detalye, mga puting papel, o mga pagsasaayos ng sample na pagsubok, mangyaring makipag-ugnayan sa aming Technical Support Team upang tuklasin kung paano mapapahusay ng Semixlab ang iyong kahusayan sa proseso.

Mga pangunahing bentahe ng Semixlab High-Purity SiC Boat

1. Sobrang kadalisayan (pangunahing kalamangan)

Ang Semixlab High-Purity SiC Boat ay may ultra-high purity (≥99.9999%), at ang impurity content (Fe, Al, Na, atbp.) ay kinokontrol sa antas na 1 ppm upang maiwasan ang kontaminasyon ng mga wafer o epitaxial na materyales, na partikular na angkop para sa paggawa ng semiconductor ng SiC/GaN.

2. Chemical inertness (corrosion resistance)

Lumalaban sa acid, alkali/plasma erosion, at maaaring lumaban sa mga corrosive na gas gaya ng HF, HCl, H2(gaya ng mga proseso ng semiconductor etching). Walang paglabas ng gas sa mataas na temperatura.

3. Lakas ng mekanikal at habang-buhay

Napakataas ng tigas, napakahusay na paglaban sa pagsusuot, binabawasan ang panganib ng pagkalat ng butil, at pinahaba ang buhay ng serbisyo (karaniwan ay 3 hanggang 5 beses kaysa sa isang quartz boat). Hindi madaling ma-deform sa mataas na temperatura, pinapanatili ang wafer flatness (tulad ng warpage sa isang diffusion furnace <0.1mm).

4. Pagkatugma sa proseso

Naaangkop sa iba't ibang malupit na kapaligiran, mga kapaligiran ng oksihenasyon/pagbawas (gaya ng O2, H2, Ar) at mga proseso ng patong ng CVD/PVD. Ang ibabaw ay maaaring i-customize, tulad ng buli (Ra<0.1μm) o patong (tulad ng SiO2) upang higit pang mabawasan ang kontaminasyon.