SiC Cantilever Paddles

Ⅰ. High-Purity SiC Cantilever Paddles para sa Precision Wafer Handling

Ang SiC Cantilever Paddles ay mga kritikal na bahagi na ginagamit sa thermal processing equipment para sa paghawak ng mga wafer sa panahon ng epitaxy, diffusion, at oxidation na mga hakbang sa semiconductor fabrication. Ang kanilang mga pambihirang thermal at mekanikal na katangian ay ginagawa silang perpekto para sa mataas na temperatura at kinakaing unti-unti na mga kapaligiran sa mga pagpapatakbo ng cleanroom.

Ⅱ. Pangkalahatang-ideya ng Produkto at Mga Kalamangan sa Paggana

1. Mga Katangi-tanging Materyal na Katangian para sa Mga Application na Mataas ang Pagganap

Ang SiC Cantilever Paddles ng Semixlab ay ginawa mula sa high-purity, recrystallized na silicon carbide (R-SiC) o CVD SiC coatings, na nagbibigay ng mahusay na thermal conductivity (hanggang sa 120 W/m·K), low thermal expansion (~4.0 x 10⁻⁶/K), at namumukod-tanging resistensya sa corrosion at thermal shock. Tinitiyak ng mga katangiang ito ang matatag na suporta sa wafer sa panahon ng mga prosesong may mataas na temperatura, na pinapaliit ang deformation ng wafer o mga panganib sa kontaminasyon.

2. Superior Dimensional Stability at Flatness

Sa kaunting warpage kahit na sa mga temperatura na lumampas sa 1400°C, tinitiyak ng disenyo ng cantilever ang pare-parehong pagkakalagay at paglilipat ng wafer, na mahalaga para sa pagkakapareho ng epitaxial layer. Ang mababang masa at mataas na higpit ng SiC ay nagpapabuti sa throughput ng system at pagtugon sa temperatura sa panahon ng mabilis na pagproseso ng thermal.

3. Cleanroom-Grade Surface Purity

Salamat sa siksik at makinis na SiC surface finish, pinapaliit ng mga Semixlab paddle ang pagbuo ng particle at outgassing. Ito ay partikular na mahalaga sa mga kapaligiran na nangangailangan ng Class 1 o ISO 14644-1 Class 2 na antas ng kalinisan.

4. Iniangkop para sa Epitaxial, Diffusion, at CVD Furnace

Ang aming SiC Cantilever Paddles ay malawakang ginagamit sa MOCVD, LPCVD, at oxidation furnace platform, na tugma sa mga nangungunang tatak ng kagamitan gaya ng ASM, TEL, at Veeco. Ang mga ito ay ininhinyero para sa pinakamainam na pagkakapareho ng thermal at mekanikal na katumpakan, na tumutulong na matiyak ang mas mataas na ani at mas mababang pagkakaiba-iba ng proseso.

Ⅲ. Bakit Pumili ng Semixlab?

Nagbibigay kami ng mga pinasadyang serbisyo sa engineering, kabilang ang:

● Pag-customize ng produkto para sa laki, istraktura, at grado ng materyal

● Pag-optimize ng coating para sa thermal at chemical resistance

● Mabilis na prototyping at mga kakayahan sa paggawa ng maliit na lot

● Teknikal na pagkonsulta at pagpapatunay ng disenyo

Bilang nangungunang Chinese manufacturer at pabrika ng mga produktong SiC Cantilever Paddles, iginigiit ng Semixlab na magbigay ng customized na teknolohiya at mga solusyon sa produkto. Gusto mo mang i-optimize ang kasalukuyang proseso ng heat treatment, bumili ng mga pamalit na bahagi na may mataas na pagganap, o sama-samang bumuo ng mga customized na solusyon sa SiC, bibigyan ka ng Semixlab ng teknikal at suporta sa paghahatid.

● MOCVD epitaxy wafer carrier

● Oxidation at diffusion furnace paddle arm

● Wafer loading system sa LPCVD/CVD tool

● Customized susceptor support arm para sa compound semiconductor growth